T%=～99.9% (250-2000nm、AOI=0~45) コンタクト法によりナノテクガラスUHVセル｜光学精密加工・フロ－セル・石英ガラス・コンタクト/Silica ・ Quartz Glass・ Flow Cell ・ UHV/石英・ PYREX ・流式细胞仪・鞘流池・流动室・真空腔

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T%=～99.9% (250-2000nm、AOI=0~45) コンタクト法によりナノテクガラスUHVセル

NanoTech UHV cell with Super AR coating

世界初：コンタクト法によりナノテク超高透過バンドガラスUHVセル
He Leak Rate, better than 10^(-13) PaM3/sec
T%=up to 99.9% (250-2000nm、AOI=0~45)
info*akatsuki-tech.com (change* into @)

超高透过率（整个波段97-99.9%），
超高真空度（10^(-13) PaM3/sec）
超大AOI入射角
适用于量子计算等领域