T%=～99.9% (250-2000nm、AOI=0~45) コンタクト法によりナノテクガラスUHVセル

NanoTech UHV cell with Super AR coating
超高透-超宽波段250-2000nm纳米技术


世界初： コンタクト法によりナノテク超高透過バンドガラスUHVセル
He Leak Rate, better than 10^(-13) PaM3/sec
T%=up to 99.9% (250-2000nm、AOI=0~45)
info*akatsuki-tech.com (change* into @)

超高透过率（整个波段97-99.9%），
超高真空度（10^(-13) PaM3/sec）
超大AOI入射角
适用于量子计算等领域

世界初: コンタクト法によりナノテク・超高透過率バンドUHVセル

Glass UHV cell with Super AR coating (NanoTech) with Optical Contact
世界独创-原子键合法-制作超高透/超宽/冷原子超高真空腔


纳米技术-原子键合Optical Contact，Atom Bonding
超宽波段（250-2000nm），
超高透过率（整个波段97-99.9%），
超高真空度（10^(-13) PaM3/sec）
超大AOI入射角
适用于量子计算等领域